ITO導電玻璃鍍膜前的清洗

ITO薄膜在基片上的附著強度不僅取決于薄膜與基片兩種 材料本身的理化性能，還與基片表面的清潔和活化程度有 關。經過清洗處理的玻璃基片在進入真空室進行鍍膜之 前,仍有可能受到環境中的塵埃和氣體分子的污染。為了 獲得“實時”潔凈的表面，最好的辦法是進行在線等離子清 洗。

長期生產使用表明，經過該清洗裝置在線清洗后 所鍍的SiO2膜與ITO膜，薄膜的針孔率降低了二個數量 級，薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。

用人工方法產生的等離子體大致可分為高溫等離子體 與低溫等離子體。高溫等離子體技術主要用于受控熱核聚 變反應的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中 離子與中性粒子的溫度遠遠低于電子的溫度而接近于或略 高于環境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高 活性的物質，因此特別適合于在各種材料科學和微電子工 業中應用于在低溫下的化學反應。可以毫不夸張地說，如 果沒有低溫等離子體就沒有現代的超大規模集成電路工藝 （如：等離子體干法刻蝕,氧等離子體去光刻膠，等離子體化 學氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜，等等）。等ITO導電玻璃的清洗

ITO薄膜在基片上的附著強度不僅取決于薄膜與基片兩種 材料本身的理化性能，還與基片表面的清潔和活化程度有 關。經過清洗處理的玻璃基片在進入真空室進行鍍膜之 前,仍有可能受到環境中的塵埃和氣體分子的污染。為了 獲得“實時”潔凈的表面，最好的辦法是進行在線等離子清 洗。

長期生產使用表明，經過該清洗裝置在線清洗后 所鍍的SiO2膜與ITO膜，薄膜的針孔率降低了二個數量 級，薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。

用人工方法產生的等離子體大致可分為高溫等離子體 與低溫等離子體。高溫等離子體技術主要用于受控熱核聚 變反應的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中 離子與中性粒子的溫度遠遠低于電子的溫度而接近于或略 高于環境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高 活性的物質，因此特別適合于在各種材料科學和微電子工 業中應用于在低溫下的化學反應。可以毫不夸張地說，如 果沒有低溫等離子體就沒有現代的超大規模集成電路工藝 （如：等離子體干法刻蝕,氧等離子體去光刻膠，等離子體化 學氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜，等等）。等